<?xml version="1.0" encoding="UTF-8" ?>
<modsCollection xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns="http://www.loc.gov/mods/v3" xmlns:slims="http://slims.web.id" xsi:schemaLocation="http://www.loc.gov/mods/v3 http://www.loc.gov/standards/mods/v3/mods-3-3.xsd">
<mods version="3.3" id="98485">
 <titleInfo>
  <title>ANALISIS  PELAPISAN  MATERIAL  FE  DENGAN CUSO4.5H2O MENGGUNAKAN METODE ELEKTROPLATING</title>
 </titleInfo>
 <name type="Personal Name" authority="">
  <namePart>Ernawati</namePart>
  <role>
   <roleTerm type="text">Primary Author</roleTerm>
  </role>
 </name>
 <typeOfResource manuscript="no" collection="yes">mixed material</typeOfResource>
 <genre authority="marcgt">bibliography</genre>
 <originInfo>
  <place>
   <placeTerm type="text">Banda Aceh</placeTerm>
   <publisher>Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam</publisher>
   <dateIssued>2013</dateIssued>
  </place>
 </originInfo>
 <language>
  <languageTerm type="code"></languageTerm>
  <languageTerm type="text"></languageTerm>
 </language>
 <physicalDescription>
  <form authority="gmd">Skripsi</form>
  <extent></extent>
 </physicalDescription>
 <note>Pelapisan   material  Fe dengan  Cu  menggunakan   metode  electroplating telah diteliti.   Penelitian   ini   bertujuan  mnengetahui   pengaruh   tegangan   dan   konsentrasi larutan  CuSOz.5HO pada  proses  electroplating  terhadap  morfologi  permukaan  dan laju  pelapisan   Cu  pada   Fe.  Pada  penelitian   ini  digunakan   CuSO~.5HO  sebagai elektrolit  yang dilarutkan  dalam  aquades  dengan  konsentrasi  larutan  0, 1      M.  Elektroda yang digunakan  adalah Fe dan Pb.  Beda potensial  antara kedua elektroda  divariasikan dari 5 sampai  25 volt, dan konsentrasi  larutan  Cu  divariasikan  dari  0, I    M sampai 0,4&#13;
M,  sedangkan   lamanya  waktu  pelapisan   adalab  20  menit.  Lapisan   tembaga   yang terbentuk  selanjutnya  diannealing   pada  temperatur  400°C  dengan  waktu  penahanan&#13;
60 menit. Hasil penelitian  menunjukkan bahwa  laju pelapisan  Cu pada  Fe mengalami kenaikan     seiring     dengan     meningkatnya    tegangan.     Variasi     tegangan     juga mempengaruhi morfologi  permukaan  lapisan Cu.  Menemukan  bahwa Pada pelapisan dengan  tegangan  5 volt dan  10 volt permukaan  lapisan  terlihat  lebih halus   dan cerah. Variasi   konsentrasi larutan Cu tidak berpengaruh terhadap laju pelapisan, namun memberikan  pengaruh   yang  signifikan   terhadap   morfologi   permukaan   lapisan  Cu. Analisis spektrum  XRD  menggunakan  JPDF terhadap  serbuk hasil pelapisan menunjukkan   bahwa   fasa  yang   terkandung   pada  lapisan   tembaga   adalah   Cu~SO,&#13;
.5HO, dengan puncak  intensitas maksimum  berada  pada sudut 20 = 43,3117.&#13;
&#13;
Kata   kunci:    elekJroplating,   tegangan,    konsentrasi,    morfologi    permukaan,    laju pelapisan.&#13;
&#13;
&#13;
</note>
 <note type="statement of responsibility"></note>
 <classification>0</classification>
 <identifier type="isbn"></identifier>
 <location>
  <physicalLocation>ELECTRONIC THESES AND DISSERTATION Universitas Syiah Kuala</physicalLocation>
  <shelfLocator></shelfLocator>
 </location>
 <slims:digitals/>
</mods>
<recordInfo>
 <recordIdentifier>98485</recordIdentifier>
 <recordCreationDate encoding="w3cdtf">2022-03-10 12:21:10</recordCreationDate>
 <recordChangeDate encoding="w3cdtf">2022-03-10 12:21:10</recordChangeDate>
 <recordOrigin>machine generated</recordOrigin>
</recordInfo>
</modsCollection>