Electronic Theses and Dissertation

ABSTRAK
Telah dilakukan sintesa dan karakterisasi SiO2 dari abu sekam padi serta
pembuatan lapisan tipis SiO2 melalui metode Sol-Gel. Penelitian ini bertujuan
untuk mengetahui struktur kristal silika (SiO2) dari abu sekam padi dan untuk
mengetahui pengaruh variasi temperatur annealing terhadap sifat optik lapisan
tipis SiO2. Sintesa silika abu sekam padi dilakukan melalui metode ekstraksi alkali
dan lapisan tipis dipreparasi dari bahan silika (SiO2) abu sekam padi dan
dilarutkan dengan menggunakan ethanol. Larutan SiO2 diaduk dengan
menggunakan magnetik stirrer selama 60 menit hingga terbentuk Sol. Sol larutan
kemudian ditumbuhkan di atas substrat kaca melalui teknik dip Coating dengan
kecepatan tarik + 3 cm/jam. Selanjutnya lapisan tipis SiO2 di-annealing dengan
variasi temperatur 400
o
C, 450
o
C, 500
o
C, 550
o
C dan 600
o
C dengan waktu tahan
selama 60 menit. Silika (SiO
2) abu sekam padi dan lapisan tipis SiO
2 selanjutnya
dikarakterisasi menggunakan XRD dan UV-Vis. Hasil karakterisasi silika (SiO2)
abu sekam berdasarkan XRD menunjukkan bahwa silika (SiO2) abu sekam padi
memiliki tingkat kristal dengan struktur amorf. Berdasarkan hasil karakterisasi
UV.Vis diperoleh semakin tinggi temperatur annealing maka diperoleh nilai
transmitansi yang semakin rendah dan koefesien absorp yang semakin tinggi.
Band gap optik lapisan tipis SiO2
diperoleh berkisar antara 3,57 eV- 3,68 eV.
Kata kunci: Lapisan Tipis SiO2
abu sekam padi, waktu annealing, struktur kristal,
transmitansi, Koefesien absopsi, Band gap optik.
vi
ABSTRACT
The synthesis has performed and characterization thin film of SiO2 from rice husk
ash as well as the manufacture thin film of SiO2 by Sol-Gel method. This study
aims to determine the crystal structure of silica (SiO
2) from rice husk ash and to
determine the influence of annealing temperature variations of the optical
properties thin film of SiO2
. Synthesis silica rice husk ash made through alkali
extraction method and a thin film of material prepared silica (SiO2) rice husk ash
and dissolved using ethanol. SiO
2 solution was stirred by using a magnetic stirrer
for 60 minutes to form Sol. Sol solution then grown on a glass substrate by dip
coating techniques with the speed of drag + 3 cm/hour. Furthermore, a thin film of
SiO2 annealing with variations in temperature of 400 °C, 450 °C, 500 °C, 550 °C
and 600 °C with a hold time of 60 minutes. Silica (SiO2) rice husk ash and a thin
film of SiO2 further characterized using XRD and UV-Vis. Results of
characterization of silica (SiO
2) husk ash by XRD showed that the silica (SiO
2)
husk ash has a level of crystals with amorphous structure. Based on the results
obtained UV.Vis characterization of the higher temperature annealing of the
obtained transmittance values are lower and the higher the coefficient absorp.
Optical band gap thin film of SiO2 obtained ranged from 3.57 to 3.68 eV.
Keywords: Thin film SiO2 rice husk ash , annealing time , the crystal structure ,
transmittance , the absorption coefficient , the optical band gap .

Tidak Tersedia Deskripsi