<?xml version="1.0" encoding="UTF-8" ?>
<modsCollection xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns="http://www.loc.gov/mods/v3" xmlns:slims="http://slims.web.id" xsi:schemaLocation="http://www.loc.gov/mods/v3 http://www.loc.gov/standards/mods/v3/mods-3-3.xsd">
<mods version="3.3" id="128270">
 <titleInfo>
  <title>ANALISA PENGARUH  VARIASI TEGANGAN PADA PELAPISAN MATERIAL  ZN DENGAN CUSO 4,.5H2,O MENGGUNAKAN METODE ELEKTROPLATING</title>
 </titleInfo>
 <name type="Personal Name" authority="">
  <namePart>Sri Mulyani</namePart>
  <role>
   <roleTerm type="text">Primary Author</roleTerm>
  </role>
 </name>
 <typeOfResource manuscript="no" collection="yes">mixed material</typeOfResource>
 <genre authority="marcgt">bibliography</genre>
 <originInfo>
  <place>
   <placeTerm type="text">Banda Aceh</placeTerm>
   <publisher>Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam</publisher>
   <dateIssued>2013</dateIssued>
  </place>
 </originInfo>
 <language>
  <languageTerm type="code"></languageTerm>
  <languageTerm type="text"></languageTerm>
 </language>
 <physicalDescription>
  <form authority="gmd">Skripsi</form>
  <extent></extent>
 </physicalDescription>
 <note>Pelapisan   material  Zn  dengan   Cu  menggunakan   metode  elektroplating telah  diteliti.  Penelitian  ini bertujuan  mengetahui  pengaruh  tegangan  dan  durasi pelapisan   pada   proses   elektroplating  terbadap   morfologi   permukaan   dan   Iaju pelapisan   Cu  pada   Zn.   Pada   penelitian   ini  digunakan   CuS04.5H2O  sebagai elektrolit  yang  dilarutkan  dalam  aquadest  dengan  konsentrasi  0, 1    M,  elektroda yang   digunakan   adalah   Zn   dan   Cu.   Beda   potensial   antara   kedua   elektroda divariasikan   dari  2  sampai   10  volt,  sedangkan   durasi  pelapisan   divariasikan   5 sampai   30  menit.   Lapisan   Cu  yang   terbentuk   selanjutnya  diannealing  pada temperatur   300°C  dengan  waktu  penahanan   60  menit.  Lapisan  yang  terbentuk dianalisa  menggunakann   atomic force  microscope (AFM)  dan  x-ray  diffraction (XRD). Hasil  analisis  menunjukkan  bahwa  laju  lapisan  Cu yang  terbentuk  pada variasi  tegangan  2, 4, 6, 8,  I0  volt  masing-masing  adalah  0.009,  0.0065,  0.009,&#13;
0.003  dan  0.003  mm/menit.   Durasi  waktu    pelapisan   mempengaruhi   ketebalan lapisan  Cu yang terbentuk.  Secara  umum,  ketebalan  lapisan Cu yang  terdeposisi meningkat  seiring dengan  meningkatnya  durasi waktu pelapisan. Analisa terhadap morfologi    permukaan    lapisan   Cu   dengan   menggunak an   AFM   menunjukkan&#13;
bahwa  lapisan  Cu  yang  terbentuk  tidak  merata  dengan  nilai  kekasaran  sebelum dilapisi  adalah  36 nm lapisan  Cu setelah  pelapisan  pada tegangan  2 volt 0,24 m&#13;
sedan gkan  pada  tegangan  4 volt 0,3 7 µm.  Analisa  spektrum  XRD  menggunakan JPDF   terhadap    serbuk.  Cu   yang   terdeposisi   menunjukkan   bahwa   fasa  yang terkandung  merupakan  fasa CuSO4, dan Cu20 (SO4).&#13;
&#13;
Kata  kunci:  elektroplating,  tegangan,  larnanya  waktu,  morfologi  permukaan,  laju pelapisan.&#13;
&#13;
&#13;
</note>
 <note type="statement of responsibility"></note>
 <classification>0</classification>
 <identifier type="isbn"></identifier>
 <location>
  <physicalLocation>ELECTRONIC THESES AND DISSERTATION Universitas Syiah Kuala</physicalLocation>
  <shelfLocator></shelfLocator>
 </location>
 <slims:digitals/>
</mods>
<recordInfo>
 <recordIdentifier>128270</recordIdentifier>
 <recordCreationDate encoding="w3cdtf">2024-08-20 12:32:57</recordCreationDate>
 <recordChangeDate encoding="w3cdtf">2024-08-20 12:32:57</recordChangeDate>
 <recordOrigin>machine generated</recordOrigin>
</recordInfo>
</modsCollection>