<?xml version="1.0" encoding="UTF-8" ?>
<modsCollection xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xmlns="http://www.loc.gov/mods/v3" xmlns:slims="http://slims.web.id" xsi:schemaLocation="http://www.loc.gov/mods/v3 http://www.loc.gov/standards/mods/v3/mods-3-3.xsd">
<mods version="3.3" id="117070">
 <titleInfo>
  <title>PENGARUH  KONSENTRASI LARUTAN  SODIUM  HIPOKLORIT SEBAGAIRNDESINFEKTAN  TERHADAP  MONOMER SISA BASIS GIGI TIRUANRNRESIN AKRILIK HEAT CURED</title>
 </titleInfo>
 <name type="Personal Name" authority="">
  <namePart>Cut Indriani Gustiana</namePart>
  <role>
   <roleTerm type="text">Primary Author</roleTerm>
  </role>
 </name>
 <typeOfResource manuscript="no" collection="yes">mixed material</typeOfResource>
 <genre authority="marcgt">bibliography</genre>
 <originInfo>
  <place>
   <placeTerm type="text">Banda Aceh</placeTerm>
   <publisher>Fakultas Kedokteran</publisher>
   <dateIssued>2013</dateIssued>
  </place>
 </originInfo>
 <language>
  <languageTerm type="code"></languageTerm>
  <languageTerm type="text"></languageTerm>
 </language>
 <physicalDescription>
  <form authority="gmd">Skripsi</form>
  <extent></extent>
 </physicalDescription>
 <note>Sodium hipoklorit (NaOCI) merupakan desinfektan yang efektif melawan mikroorganisme dan  menghilangkan stain  pada  basis gigi tiruan  resin akrilik. Penggunaan bahan kimia ini dengan konsentrasi tinggi  diduga dapat mempengaruhi jumlah   monomer  sisa  pada   basis  gigi  tiruan resin  akrilik. Penelitian  ini  dilakukan   untuk mengetahui pengaruh konsentrasi  larutan sodium hipoklorit 2% dan  5% terhadap monomer sisa resin akrilik heat cured. Penelitian ini menggunakan 10  spesimen   resin akrilik  heat  cured QC-20 dengan  ukuran diameter  50±1  mm dan tebal 2±0,5 mm.  Spesimen tersebut dibagi menjadi 2 kelompok perendaman yakni kelompok larutan NaOCl  konsentrasi 2% dan kelompok larutan NaOCl  konsentrasi  5%.  Masing-masing kelompok dilakukan perendaman selama 5  hari  1  jam  40 menit mensimulasikan penggunaan larutan desinfektan selama  1   tahun.  Semua spesimen  yang telah direndam diukur jumlah monomer sisanya menggunakan alat Gas Chromatography dengan sistem  FID. Data yang diperoleh kemudian  dianalisis  dengan  t-test independent.  Hasil  analisis menunjukkan  tidak adanya perbedaan signifik an (p &gt;0,05) antara rerata monomer sisa resin akrilik yang direodam  menggunakan larutan  sodium hipoklorit dengan konsentrasi yang berbeda. Hal ini menunjukkan bahwa konsentrasi larutan sodium hipok.lorit  tidak mempengaruhi jumlah monomer sisa pada basis gigi tiruan resin akrilik heat cured.&#13;
&#13;
Kata   kunci  :    sodium  hipoklorit, basis  gigi  tiruan,   resin  akrilik   heat  cured,&#13;
monomer sisa, Gas Chromatography- FID&#13;
</note>
 <note type="statement of responsibility"></note>
 <classification>0</classification>
 <identifier type="isbn"></identifier>
 <location>
  <physicalLocation>ELECTRONIC THESES AND DISSERTATION Universitas Syiah Kuala</physicalLocation>
  <shelfLocator></shelfLocator>
 </location>
 <slims:digitals/>
</mods>
<recordInfo>
 <recordIdentifier>117070</recordIdentifier>
 <recordCreationDate encoding="w3cdtf">2023-11-16 10:37:49</recordCreationDate>
 <recordChangeDate encoding="w3cdtf">2023-11-16 10:37:49</recordChangeDate>
 <recordOrigin>machine generated</recordOrigin>
</recordInfo>
</modsCollection>