PENGARUH TEMPERATUR SUBSTRAT TERHADAP PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS SILLKON …
Wanti Meirivana
Penelitian ini mengkaji pengaruh temperatur substrat terhadap karakteristik lapisan tipis silikon germanium amorf terhidrogenasi (a- SiGe:H) yang ditumbuhkan dengan metoda Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD). Lapisan tipis a-SiGe:H ditumbuhkan di atas gelas coming 7059 pada temperatur yang divariasikan dari ISOT sampai 2S0•C dengan daya 30 watt, tekanan chamber 500 mTorr serta laju aliran gas SiH4 dan GeH4 masing-masing 70 dan I seem. …
- Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Banda Aceh - 2005
- Baca Selengkapnya