PENGARUH DAYA RF TERHADAP KARAKTERLSTIK LAPISAN TIPIS A-SIGE:H DENGAN METODE…
Nonong Mailufar
Telah dilakukan penelitian pengaruh daya rf (laju deposisi) terhadap karakteristik lapisan tipis silikon germanium amorf terhidrogenasi (a-SiGe.H) yang ditumbuhkan dengan metode Plasma Enhanched Chemical Vapor Deposition (PECVD). Lapisan tipis a-SiGe:II ditumbuhkan diatas gelas coming #7059 pada daya yang divariasikan dari 30 watt samapai 70 watt pada temperatur 200°C, tekanan 500 m torr serta laju aliran gas SiH4 dan GeH4 masing-masing 70…
- Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Banda Aceh - 2005
- Baca Selengkapnya